一、行业动态

2025年10月10日，深圳市召开的2025湾区半导体产业生态博览会新闻发布会上，深圳发改委主任郭子平表示：有“半导体领域的DeepSeek”之称的新凯来即将在2025湾区半导体产业生态博览会上带来“意想不到的惊喜”。

2025年10月09日，中国商务部发布稀土出口管制新规，新规涵盖的不仅是稀土元素本身，更延伸到整个产业链的技术出口控制。从开采、冶炼到回收利用，中国正在向世界展示其在稀土领域无可争议的主导权。每台ASML的光刻机EUV光刻机需要超过20种不同的稀土材料，其中至少7种完全依赖中国供应。以及ASML的5000多家供应商也离不开中国稀土，意味着管制产生的将波及整个产业链。

2025年09月17日，外媒报道中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的一台28纳米的深紫外线（DUV）光刻机，正测试的光刻机采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。上海宇量昇科技有限公司的股东为创科微(上海)技术有限公司和深圳市新凯来技术有限公司，穿透后分别是上海国资委和深圳国资委各占50%。

2025年03月28日，的SEMICON China展会上，新凯来首次公开亮相便一次性发布了6大类31款已量产的半导体设备，如以名山命名的刻蚀机、薄膜沉积设备等，技术覆盖全面，引发行业震动。其快速发展已被视为中国半导体设备国产化的重要力量。五款以中国名山命名的产品成为核心看点：EPI（外延沉积）“峨眉山”、ETCH（蚀刻）“武夷山”、CVD（化学气相沉积）“长白山”、PVD（物理气相沉积）“普陀山”、ALD（原子层沉积）“阿里山”，这些名称背后，是半导体制造工艺中至关重要的技术节点。

二、新凯来基本概念

深圳新凯来技术有限公司成立于2021年，由深圳国资委全资控股，同时其技术与团队根基源自华为2012实验室的“星光工程部”，这种“国家队+华为技术底蕴”的组合，使其在资金、资源和核心技术攻关上具备独特优势。

新凯来主营是半导体装备和零部件，旨在解决中国半导体产业的“卡脖子”问题，推动供应链的自主可控，核心使命是突破光刻机技术封锁，其光刻机技术路径以深紫外（DUV）光刻+自对准四重成像（SAQP）工艺为核心，旨在绕开EUV限制，实现先进制程芯片的自主制造。

芯片制造有八大核心装备，包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、清洗设备、量检测设备、离子注入设备、扩散设备、化学机械抛光设备。网传当前除了EUV光刻机以外，其他设备已经全部搞定了。新凯来在短时间内推出了覆盖多个关键环节的设备矩阵，直接挑战了应用材料（AMAT）、泛林集团（Lam Research）、东京电子（TEL）等国际巨头在细分领域的长期垄断地位。

光刻机是芯片制造过程中的核心装备，其核心原理是将掩模版上的电路图形通过光学的办法精确地转移到硅片上的光刻胶层上。在这一过程中，光源的波长是决定其能够实现的最小电路线宽（即分辨率）的关键因素之一，波长越短，理论上能刻出的图形就越精细。目前在集成电路的大规模制造中，主要应用的是深紫外（DUV）和极紫外（EUV）两种光刻技术。DUV主要应用在7纳米及以上的工艺节点，覆盖了当前大部分的数字芯片和几乎所有的模拟芯片需求，EUV主要应用在7纳米以下。目前，荷兰的ASML公司是全球唯一能够设计和制造EUV光刻机的厂商，且对我国禁运。

二、新凯来产业链

新凯来直接瞄准被海外巨头垄断的高端市场空白，其产品线如以名山命名的刻蚀、薄膜沉积设备从一开始就对标国际先进水平，覆盖7nm及以下先进制程，并追求核心零部件100%国产化。这一定位使其快速获得了中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的订单新凯来已斩获超百亿订单，预计2025年收入有望达到25亿元。为满足需求，其供应链正在扩产，例如新莱应材2025年来自新凯来的订单规模已达数亿元级别。

1、核心合作伙伴

华为：联合定义技术路线，提供芯片设计验证场景，如昇腾、鲲鹏芯片。

中芯国际：SAQP工艺已导入28nm/14nm产线，计划2025年实现5nm风险试产。

中科院体系：长春光机所（光学系统）、上海微系统所（材料）提供底层技术支持。

2、供应链情况

设备生态：联合北方华创（刻蚀）、至纯科技（清洗设备）、新莱应材（零部件）形成国产设备闭环，验证周期缩短至国际水平的50%。

关键零部件供应商：新莱应材（RTP/DPN设备零部件独家供应）、至纯科技（湿法清洗设备订单占比超60%）。

关键工艺设备供应商：正帆科技（气体输送模组）、利和兴（精密结构件）等。

光刻与量检测系统：奥普光电（曝光系统）、路维光电（掩膜版）、同惠电子（精密阻抗测试仪）等。

材料与气体供应商：江丰电子（PVD靶材）、华特气体（电子特气）

三、主要投资机会

1、供应商

新莱应材：为新凯来的刻蚀、薄膜沉积等设备提供超高纯净度的管路系统、真空阀门等关键零部件，是核心供应商。2024年三季度获新凯来8000万元订单，2025年进一步斩获数亿级订单。

至纯科技：是新凯来湿法清洗设备的核心供应商，提供半导体湿法工艺设备及零部件。

奥普光电：实控人长春光机所与新凯来有合资公司，间接供应光刻机曝光系统，关系紧密。

正帆科技:为新凯来提供干法刻蚀设备所需的气体输送模组（Gas Box）等关键组件。

同惠电子：为新凯来提供精密阻抗分析仪等电子测试仪器，有长期合作关系。北交所唯一明确向新凯来及华为海思供货的企业，提供精密阻抗测试仪、半导体特性分析仪等测试设备，LCR测试仪精度达0.05%，适配新凯来EUV光刻机的缺陷检测环节，2025年目标营收增长80%。

路维光电：向新凯来供应掩膜版产品。自2024年起向新凯来批量交付40-55nm光掩膜版，28nm产品进入产线验证阶段，2025年产能提升至10万片/年，订单覆盖头部晶圆厂及新凯来。

江丰电子：是新凯来PVD（物理气相沉积）设备的靶材供应商，覆盖铝、钛、钽靶材，适配14nm及以上逻辑芯片和128层以上3D NAND工艺，2025年计划国产化量产静电吸盘适配新凯来量测设备，订单金额超2亿元。

冠石科技：量产半导体级石英掩膜版40-55nm产品适配自对准四重图形（SAQP）等先进工艺，28nm产品进入新凯来验证阶段，其产品与新凯来联合研发的自对准四重图形曝光（SAQP）工艺存在协同可能性。

富创精密：可是与薄膜沉积设备精密部件。

利和兴：精密结构件与测试夹具，覆盖刻蚀、薄膜沉积设备全流程，2024年来自新凯来的订单贡献显著，预计金额约7-8亿元。

南大光电：ArF光刻胶通过中芯国际28nm产线验证，适配新凯来自主研发的SAOP曝光工艺，用于5nm等效制程芯片制造，2024年光刻胶业务收入同比增长170%。

2、其他

深振业A：新凯来控股股东董事兼任其监事，双方同属深圳重大产业投资集团体系，市场预期新凯来可能通过资产重组注入，账面预留现金储备充裕，具备资产整合预期。