100MW组件由4类设备构成:PVD设备、涂布设备、激光设备、封装设备。前三个比较重要,封装设备就和晶硅没有太大差别,通用的。PVD设备和涂布设备更多参照了面板行业的TFT制程。也就是说在三个主要设备中有2个是来自面板行业,因为钙钛矿的制造生产方式和面板有很多相似之处,晶硅基本上就没有重叠的地方。
我们一共有3道PVD设备,即阳极缓冲层、阴极缓冲层、背电极;1道涂布设备,即涂布钙钛矿;4道激光设备,即激光P1、P2、P3、P4。
流程为:首先输入FTO玻璃,用PVD设备镀阳极缓冲层,然后由激光P1进行划线,随后是钙钛矿涂布的结晶。接着是PVD的第二道设备镀阴极缓冲层,再进行激光P2划线。完成后我们再镀背电极进行激光P3划线。随后进行激光P4,最终就是封装。所以整个钙钛矿的生产流程是比较短的,9步就可以完成一个完整的钙钛矿组件。
由图中可以看到,我们现在选择的是1*2m的组件尺寸,这在晶硅中也是比较常见的。我们想传达给市场一个信息,使用钙钛矿与使用晶硅是一样的,用户不需要为钙钛矿配特殊的东西,甚至连支架都可以直接使用晶硅的支架。
钙钛矿相对于晶硅还有一点值得一提:它是天然垂直一体的。一个钙钛矿厂,我们输入化工原料、玻璃、靶材、封装胶膜、接线盒,输出的就是组件。也就是说钙钛矿的一个组件厂就相当于晶硅从硅料、硅片、电池、组件这4大环节加起来。钙钛矿是在一个屋檐下完成的,所有的生产都是天然垂直一体。





