AI 装备、玻璃基板拆解
明远投研
  广东

近期美股、A 股科技板块活跃度同步回升,半导体设备、光模块、存储方向相继反弹。本轮支点不在估值,而在订单与产能节点:存储厂进入扩产周期,光模块设备订单持续释放,玻璃基板由 0 到 1 转入小批量。

一、长鑫 DRAM 量产,设备协同切入

9 月 20 日,长鑫存储宣布第五代 DRAM 平台进入量产。新平台采用四重图形化技术,存储单元间距进一步缩小,单片晶圆可产出的芯片数量较上一代提高至少 50%

该平台在研发阶段即与国内设备企业协同验证,国产设备的参与环节正由成熟制程向先进 DRAM 工艺延伸。海外侧,SK 海力士等存储厂同步筹备扩产。

二、设备三主线,存储扩产为先

半导体设备需求沿三条线展开:

1.存储扩产:DRAM 与 3D NAND 扩产是未来几年需求明确的方向,直接拉动刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP 等设备。

2.工艺升级:先进 DRAM、更高堆叠层数的 NAND 及 SoC 芯片复杂度提升,带动晶圆制造、先进封装与测试设备量价齐升。

3.国产替代:长鑫第五代平台量产后,国产设备与先进存储工艺的绑定程度加深。

从国产化率看,检测量测、涂胶显影两个环节国产化率较低,对应设备增量空间。

三、光模块扩产,测试向晶圆延伸

光博会反馈:光模块设备订单持续释放,核心设备与芯片已是扩产瓶颈,下游考核点转向产能与稳定交付,头部客户同步加速 NPO 布局。

速率由 800G 向 1.6T 升级,速率翻倍的同时,通道数量、光电器件数量、耦合精度,以及误码率(BER)测试、眼图测试、热管理要求同步抬升。

进入 NPO、CPO 阶段后,测试由成品模块向晶圆级、芯片级、光引擎级延伸,测试工序与设备用量同步增加。

四、PCB 工艺升级,价值量提升

PCB 设备过去两年以厂商扩产、设备数量增长为主,后续重心转向工艺升级,方向包括 M-SAP、mSAP、PTFE、高频高速材料与陶瓷基板。

三条变化抬高设备门槛:

1.高多层板、正交背板与板材升级,钻孔精度要求提高;

2.M-SAP 线宽线距持续缩小,传统减成法难以满足,光刻与精密线路检测门槛抬升;

3.陶瓷基板等新材料应用增加。

设备增长由数量驱动转向单机价值量驱动。

五、玻璃基板 0 到 1,进入小批量

AI 芯片对更大尺寸基板、更高互联密度、更低信号损耗的需求,推动封装材料向玻璃基板切换,英特尔、三星、台积电相继布局相关方案。

国内侧:沃格光电、蓝思科技等具备玻璃加工与面板背景的企业相继加码,行业产能扩容。产业进程正由 0 到 1 向 1 到 10 切换:2026 年进入小批量阶段,2027 年起逐步推进量产,产线同步进入建设期。

六、面板级封装提速,方案相继落地

康宁联合群创等面板企业推进面板级扇出封装,对接台积电供应链。台积电玻璃基板封装路径由 CoWoS 向 CoPoS 延伸,玻璃基板在其中承担测试载板功能;台积电产业链企业已到国内,与激光设备厂商洽谈后续订单。

京东方于 9 月 22 日举办全球创新大会,半导体为研讨重点,并同期召开全球供应商大会。其方案采用玻璃基板搭配 ABF 增层膜:玻璃基板承担结构支撑与垂直互联,ABF 膜负责高密度积层布线,兼顾抗翘曲与高频性能,并沿用成熟 ABF 布线工艺,降低落地门槛。

七、TGV 核心在激光,设备百亿空间

1.玻璃基板加工是封装环节的主要价值增量:工序依次为 TGV 激光打孔(激光改质、刻蚀、检测)、电镀(先以 PVD 制备种子层,再电镀填孔)、LDI 布线(曝光、显影、刻蚀、清洗)。TGV 激光、曝光、PVD、电镀为高价值环节,检测、清洗同步配套。

2.市场空间可按工时倒算:针对 510mm×515mm 大载板,单台激光设备加工一片约需 3 个工时;按 2030 年 GPU、CPU 及光模块、光引擎的数量与面积,对照打孔时间倒算,TGV 激光设备对应百亿级市场。

该测算与德国厂商 LPKF 口径吻合。LPKF 在中报中将2030 年全球激光 TGV 市场规模由 5 亿欧元上调至 17 亿欧元,为原规模的 3 倍以上。设备作为卖铲环节,在 0 到 1、1 到 10 的产业化过程中,订单与业绩先于加工、原片环节兑现。

八、行业梳理

半导体晶圆制造设备:北方华创、中微公司、拓荆科技、盛美上海、华海清科

检测量测与涂胶显影:中科飞测、精测电子、芯源微

测试设备及耗材:华峰测控、长川科技、金海通、和林微纳、强力新材

先进封装设备:芯碁微装、快克智能、德龙激光

光模块测试设备:联讯仪器、华兴源创(旗下普赛斯)、华盛昌(收购伽蓝特)、罗博特科

光模块耦合设备:博众精工、科瑞技术

PCB 设备:芯碁微装、帝尔激光、英诺激光、德龙激光、劲拓股份、东威科技

玻璃基板加工与载板:京东方 A、沃格光电、蓝思科技

TGV 激光设备:帝尔激光、大族激光、英诺激光

TGV 曝光设备:芯碁微装

TGV 电镀设备:东威科技、三孚新科

TGV PVD 薄膜沉积:微导纳米、汇成真空

风险提示:产业量产进度不及预期,设备订单存波动。

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